恒温蒸发是指在一定温度下进行蒸发，其特点应该是不会改变溶解度，当见到有晶体析出时，即达到饱和；而加热蒸发会使温度升高，物质溶解度增大，当见到有晶体析出达到饱和时，此时的饱和是高温下的饱和，当温度降低，一般溶解度会变小，溶质继续析出。
溶剂蒸发法
溶剂蒸发法是指将溶剂中的水蒸发逸出,使溶液处于过饱和状态,从而使晶体生长有足够驱动力的晶体生长法。主要装置有自控加热器,转晶电机,冷凝回收溶剂装置等。生长时可以保持恒温,用控制蒸发量来控制溶液的过饱和度,得到的晶体成分均匀,生长过程稳定,利于掺杂晶体生长。但是排出腐蚀溶剂,蒸发速率难控制,出现局部高过饱和度使晶体交叉生长。已用于制备倍频晶体1.iTi()2和压电品体Li,SH2。
生长时可以保持恒温,用控制蒸发量来控制溶液的过饱和度,得到的晶体成分均匀,生长过程稳定,利于掺杂晶体生长。但是排出腐蚀溶剂,蒸发速率难控制,出现局部高过饱和度使晶体交又生长。已用于制备倍频晶体1.iTi()2和压电品体Li,SH2。
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